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至上世纪6年代末，由于电子技术的发展，一些 在镀铁技术中采用了不对称电镀电源[2]，使氯化物镀铁技术得到了发展，镀层的硬度及耐磨性能也有了较明显的提高。近几年来，大部分 已把镀铁的研究转到了非晶态镀层、耐蚀性镀层和磁性镀层等方面。我国是在上世纪6年代从苏联引进了直流镀铁技术，用于修复因磨损等造成尺寸超差的机械零件[3]。当时由于镀液温度一般都在8℃以上，镀液成分难以控制，在镀前的阳极刻蚀及电镀过程中产生的酸雾对人员及环境均产生较严重的影响，而且镀层硬度低（布氏硬度为2～4），耐磨性能差，使用范围受到很大限制。75年，国内 出现了一种不对称交流一直流镀铁工艺，同时为了使镀层与基体结合牢固，镀前采用质量分数为3%的硫酸进行阳极刻蚀活化，因施镀温度仅为25～5℃，故称为低温镀铁工艺[4]。此工艺设备简单，符合我国国情，其镀层的洛氏硬度可达5，具有良好的耐磨性，沉积速率可达.15～.3mm/h，电流效率达9%以上，一次镀厚能力达2.～3.5mm，且可连续镀覆；镀液原材料价廉易购、成本低，引起了广泛的注意，并对镀液及镀层性能进行了研究，在国内很快得到了发展和应用。

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